キオクシア 200億円投じ研究開発向け新棟を２拠点で建設

半導体大手キオクシア(旧 東芝メモリ、所在地:東京都港区)は５月13日、フラッシュメモリおよびSSD(ソリッドステートドライブ)の研究開発を強化するため、横浜テクノロジーキャンパス(所在地:横浜市栄区)に技術開発新棟を建設し、横浜市神奈川区にクリーンルームを備えた研究開発拠点(仮称:新子安研究拠点)を新設すると発表した。投資額は約200億円で、2023年の稼働を予定。これに伴い、横浜市と川崎市に分散している部門を集結させ連携しやすい体制に整える。